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基板清洗装置以及基板清洗方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:基板清洗装置以及基板清洗方法专利类型:发明专利发明人:栗田昌人

申请号:CN201510552803.2申请日:20150901公开号:CN1059901A公开日:20161005

摘要:本发明提供基板清洗装置以及基板清洗方法,根据一实施方式,基板清洗装置具备保持以及旋转基板的多个辊。进而,所述装置具备设置于所述多个辊之中的1个以上的辊的1个以上的清洗部件。进而,所述多个辊以所述清洗部件与所述基板的侧面接触的方式保持所述基板。

申请人:株式会社东芝

地址:日本东京都

国籍:JP

代理机构:北京市中咨律师事务所

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